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Background impurities in Si0.8 Ge0.2/Si/Si0.8 Ge0.2 n-type δ-doped QW

  • V. Tulupenko
  • , C. A. Duque
  • , A. L. Morales
  • , A. Tiutiunnyk
  • , R. Demediuk
  • , T. Dmytrychenko
  • , O. Fomina
  • , V. Akimov
  • , R. L. Restrepo
  • , M. E. Mora-Ramos
  • Universidad de Antioquia
  • Donbass StateEngineering Academy
  • Universidad de Medellín
  • Universidad EIA
  • Universidad Autonoma del Estado de Morelos

Producción científica: Contribución a una revistaArtículorevisión exhaustiva

3 Citas (Scopus)

Resumen

Additional (residual) impurities in the barriers change the energy profile of a quantum well. This means that they alter the ionization energy for the impurity delta layer situated within the quantum well. In turn, this is accompanied by the change of a V-shaped quantum well created by ionization of the delta layer. All of this is the subject of studies presented in this article. It has been shown that the most dramatic are the changes in the difference between the space-quantized energy levels for an edge-doped quantum well.

Idioma originalInglés
Número de artículo1600464
PublicaciónPhysica Status Solidi (B) Basic Research
Volumen254
N.º4
DOI
EstadoPublicada - 1 abr 2017
Publicado de forma externa

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Background impurities in Si0.8 Ge0.2/Si/Si0.8 Ge0.2 n-type δ-doped QW'. En conjunto forman una huella única.

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